Máy Rửa Khuôn in Bằng Dung Dịch

K-3000L Máy rửa Khuôn in Stencil cho hóa chất gốc nước

Thích hợp với các hóa chất gốc nước và dung môi, dùng để rửa khuôn in metal mask và PCBA với hệ thống phun áp lực cao.

Thông tin máy K-3000L

Ứng dụng

Hóa chất phù hợp

Vigon SC200 Series

Hóa chất gốc nước, phù hợp vệ sinh Kem hàn, keo SMT bằng máy Rửa KED

Cách sử dụng hóa chất >>

Đặc điểm

  • Thích hợp với các hóa chất gốc nướcc, dùng để rửa khuôn in metal mask và PCBA với hệ thống phun áp lực cao.
  • Hệ thống đường ống quy trình rửa và xả riêng biệt.
  • Quy trình: Rửa hóa chất – Cách ly hóa chất – Rửa nước – Sấy khô.
  • Hê thống điều khiển với màn hình cảm ứng, phần mềm giao diện dễ sử dụng.
  • Tính năng đếm số lượng khuôn in và thông báo chu kì thay lõi lọc.
  • Đồng hồ áp suất  bơm và dung dịch có thể được hiển thì bởi Bảng điều khiển.
  • Áp suất rửa có thể được điều chỉnh độc lập.

Thông số kỹ thuật

Kết quả

Dự án

KED K2000 - Dong Van IZ
K3000 LD - Wistron Viet Nam
K2000LD - Dong Van IZ

KHÁCH HÀNG