Gốc nước, hóa chất vệ sinh Stencil thế hệ mới

HYDRON® SC 300 là hóa chất gốc nước, hòa tan hoàn toàn với nước, dùng để vệ sinh metal mask/ Stencil tại nhiệt độ phòng. Nó có thể rửa sạch kem hàn và keo SMT trong một quy trình duy nhất và không để lại bất cứ chất bẩn nào trên bề mặt thiết bị.

Ưu điểm so với chất tẩy rửa khác:

  • Khả năng làm sạch hiệu quả đối với kem hàn và keo SMT mà không để lại chất bẩn trên bề mặt thiế bị
  • Sấy khô không để lại chất bẩn, không để lại bất kỳ vệt nào trên Stencil
  • Khả năng thích ứng hoàn hảo với chất liệu Stencil
  • Hàm lượng VOC< 20 %

Ứng dụng:

  • Vệ sinh Metal mask/Stencil
  • Lỗi in kem hàn sai vị trí (Misprint)

Quy Trình:

  • Ultrasonic
  • Phun áp suất

Chất bẩn:

  • Kèm hàn
  • Keo SMT