English
한국어
Gốc nước, Công nghệ tẩy rửa không phân lớp
HYDRON® là một công nghệ tẩy rửa mới nhất được phát triển được phát triển bởi ZESTRON. Chất tẩy rửa công nghệ HYDRON® là gốc nước, không phân lớp khi pha với nước. Có ứng dụng rộng rãi trong nhiều quy trình như rửa flux PCBAs, điện tử công suất, làm sạch wafer và rửa Stencil. Công nghệ HYDRON® cho phép loại bỏ hoàn toàn các chất bẩn khác nhau từ bề mặt chất nền điện tử.
Vệ sinh sạch hơn, dễ tái chế hơn với các liên kết tạm thời
Ưu điểm của chất tẩy rửa công nghệ HYDRON®:
- Ổn định, không phân lớp khi pha với nước.
- Không cần tác động để pha hóa chất.
- Hiệu quả tẩy rửa tuyệt vời.
- Hóa chất sẽ dính vào chất bẩn tạm thời, để tách ra khỏi bề mặt rửa, sau đẩy có thể lọc lại và tái sử dụng.
- Thời gian sử dụng lâu dài, tiết kiệm chi phí.
